主要從事稀貴金屬濺射靶材的應(yīng)用基礎(chǔ)研究，半導(dǎo)體領(lǐng)域用濺射靶材及功能薄膜應(yīng)用研究及產(chǎn)品開發(fā)，信息存儲領(lǐng)域用濺射靶材及功能薄膜應(yīng)用研究及產(chǎn)品開發(fā)，貴金屬表面改性技術(shù)，貴金屬新合金及復(fù)合材料等研究工作。研究室現(xiàn)有人員24名，其中專職研究人員9名，技術(shù)人員15名，其中博士3名、碩士6名，正高級職稱3名，副高級職稱1名，博士生導(dǎo)師1名，碩士生導(dǎo)師3名。

目前，研究室發(fā)表核心期刊論文138篇，其中SCI/EI收錄73篇；申請國家發(fā)明專利55項(xiàng)，授權(quán)27項(xiàng)；起草行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)共12項(xiàng), 發(fā)布實(shí)施6項(xiàng)；先后榮獲云南省技術(shù)發(fā)明一等獎(jiǎng)等省部級科技獎(jiǎng)勵(lì)4項(xiàng)。研制的鎳鉑靶材實(shí)現(xiàn)了替代進(jìn)口并出口美國著名半導(dǎo)體公司，作為云南省科技成果轉(zhuǎn)化典型先后被國家博物館和中國共產(chǎn)黨歷史展覽館收藏，先進(jìn)事跡先后被多家主流媒體報(bào)道。